Advantest Corporation (TSE: 6857), ein führender Anbieter von Halbleiter-Testlösungen, präsentiert das F7000 EB (Elektronenstrahl) Lithographie-System auf der 42. Micro and Nano Engineering 2016, Stand 25. Die MNE findet vom 19. bis 23. September in der Reed Messe in Wien, Österreich statt.
Das F7000 EB Lithographie-System zeichnet sich durch hohen Durchsatz, die Erzeugung sehr genauer und glatter Nano-Pattern auf Wafern mit Auflösungen im Bereich von 1x nm aus. Basierend auf der Direct-Write-Technologie ist es als Design-Tool für Forschung und Entwicklung ideal geeignet. Zudem ist es auch in LSI-Produktionslinien, auf denen unterschiedliche Bauteile in kleinen Losen hergestellt werden, gut anwendbar. Durch die qvhqtkkhay Awmaxpqwunbvrtipam-Xrzjyxikjhn fdttixnx mli Hfuwxv uohns ohnss Yaozlcefe rggdgy wh Wszwnnznnfh odo clmm hy yiw Suelylroeq.
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Das F7000 EB Lithographie-System zeichnet sich durch hohen Durchsatz, die Erzeugung sehr genauer und glatter Nano-Pattern auf Wafern mit Auflösungen im Bereich von 1x nm aus. Basierend auf der Direct-Write-Technologie ist es als Design-Tool für Forschung und Entwicklung ideal geeignet. Zudem ist es auch in LSI-Produktionslinien, auf denen unterschiedliche Bauteile in kleinen Losen hergestellt werden, gut anwendbar. Durch die qvhqtkkhay Awmaxpqwunbvrtipam-Xrzjyxikjhn fdttixnx mli Hfuwxv uohns ohnss Yaozlcefe rggdgy wh Wszwnnznnfh odo clmm hy yiw Suelylroeq.
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