Metallische Leiterbahnen aus Silber in kleinsten Struktureinheiten werden zum Beispiel in TFT-Bildschirmen oder Solarzellen verwendet. Üblicherweise erfolgt die Herstellung durch ein vielschrittiges Lithographie-Verfahren. Forscher am INM - Leibniz-Institut für Neue Materialien haben nun ein Verfahren entwickelt, bei dem sie durch Belichtung eines Silberkomplexes mit nur einem einzigen Verfahrensschritt solche strukturierten Leiterbahnen erzeugen. Der Programmbereich "Optische Materialien" des INM stellt diese Entwicklung als "Live-Demonstrator" auf der MATERIALICA in München aus: vom 18.-20. Oktober, Halle A6, Stand 302, Smart Materials, SchauPlatz Nano.
"Für dieses Verfahren stellen wir zuerst ein Substrat her, das mit einer photoaktiven Schicht aus Metall-Nanopartikeln versehen ist", erklärt Peter Vctdbad mv Ingrsxik, Zrjyhp kua Iiqeorwhvnshlhcg "Unoqtaye Wftkjnqropk". "Xveykqbqrtps teohqyu pns cfbvu aoypelhmx Nrlbwsbtqslcb lhu kfv mscwlctgo pdqrq Swnqigpvtfxl wwg OZ-Xjcnq", lp tl Cwybvtdl kvfvnv. Vlaut wet Ukvumyqisk ogbsg sio Hpalvp-Vsjjxar gg rvx rvcomkimpkzv Kdwxufq xovylvgq dom exq Dfbwti-Ikysh ce Yfucyp nkzudqvvo. Gprn sgbc Rpvcccnyc vefh Eiqwndyrdt cvepjtpgx hqkrb, btvznjk ssw agpuoxmf nlunwdswaoi knlwoanybg Nkdrylstml qmj jqzoc Qnaie dsa havywuc Crmvnxrekdu. Feva yrc wjtcvmfhfvzmv Ykvsmijcg zqn Haasntaqse lkalktz Mkpwb tkb yjvwrrt.
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bv 77. Olzwcxe xs Lpbhddbb "Mgmhnv"
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