SÜSS MicroTec, führender Hersteller von Anlagen und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, und die GenISys GmbH, Hersteller von Softwareprodukten im Bereich Nanotechnologie, haben heute ihre Zusammenarbeit bei der Lithografie Simulationssoftware Layout LABTM von GenISys mit Mask Alignern von SÜSS MicroTec bekannt gegeben.
Im Rahmen dieser Kooperation wurde die Layout LABTM Software erweitert, um alle derzeit verfügbaren SÜSS MicroTec Mask Aligner Belichtungsoptiken zu modellieren. Beide Partner kombinieren ihre Anstrengungen, die SÜSS Mask Aligner Technologie mit der Simulationssoftware Layout LABTM von GenISys gemeinsam zu vermarkten. Die Kombination von Lithografiegeräten und zugehöriger Simulationssoftware ist ein weiterer Erfolgsfaktor für eine kosteneffektive Prozess- fwy Thgiozdxdmdtwbmeoj vaa pnt Zmvogswgk.
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