Die Verwendung von Laser im tief ultravioletten (DUV) Bereich hat sich in der Elektronikfertigung als unverzichtbar erwiesen und ermöglicht die Herstellung von Strukturen, die an der Grenze der menschlichen visuellen Wahrnehmung liegen. Neue hochwertige DUV-Optiken von Sill Optics zeichnen sich durch ihre präzisen Bearbeitungsmöglichkeiten aus, die eine genaue Verarbeitung von Glasmaterialien oder Folienmaterialien ermöglichen.
Ein bedeutender Vorteil dieser Technologie ist die Telezentrizität der Optik, die die wärmebeeinflusste Zone auf ein Minimum reduziert. Insbesondere für anspruchsvolle Anwendungen bieten die DUV-Objektive von Sill Optics die ideale Lösung. In der Elektronikherstellung stehen oft kleine Brennpunkte und große Scanfelder als widersprüchliche Anforderungen im Raum. Mit Wellenlängen von 257 nm oder 266 nm ermöglichen die DUV-Optiken von Sill Optics Elektronikherstellern präzise Brennpunkte von weniger als 5 μm auf einem Scanfeld von bis zu 20x20 mm².
Ein weiterer entscheidender Vorteil der DUV-Optiken von Sill Optics ist ihre hohe Flexibilität für kundenspezifische Designs. Sie sind maximal anpassungsfähig an spezifische Kundenanforderungen.
"Dank unserer innovativen DUV-Optiken erhalten Elektronikhersteller eine herausragende Lösung für ihre anspruchsvollen Herausforderungen in der Fertigung. Die präzisen Bearbeitungsmöglichkeiten und die hohe individuelle Anpassungsfähigkeit sind entscheidende Faktoren, die unseren Kunden einen echten Wettbewerbsvorteil bieten", sagt Martin Kolb, Produktmanager Laser Optics bei Sill Optics.
Die DUV-Optiken von Sill Optics setzen neue Maßstäbe in der Elektronikfertigung und versprechen eine effizientere und präzisere Produktion von elektronischen Komponenten. Weitere Informationen und technische Details zu den neuen DUV-Optiken von Sill Optics finden Sie auf der Webseite von Sill Optics unter https://www.silloptics.de/news/duv-optiken und unter https://www.silloptics.de/fileadmin/Bilder/Downloads/Highlights_2023.pdf.
Ein bedeutender Vorteil dieser Technologie ist die Telezentrizität der Optik, die die wärmebeeinflusste Zone auf ein Minimum reduziert. Insbesondere für anspruchsvolle Anwendungen bieten die DUV-Objektive von Sill Optics die ideale Lösung. In der Elektronikherstellung stehen oft kleine Brennpunkte und große Scanfelder als widersprüchliche Anforderungen im Raum. Mit Wellenlängen von 257 nm oder 266 nm ermöglichen die DUV-Optiken von Sill Optics Elektronikherstellern präzise Brennpunkte von weniger als 5 μm auf einem Scanfeld von bis zu 20x20 mm².
Ein weiterer entscheidender Vorteil der DUV-Optiken von Sill Optics ist ihre hohe Flexibilität für kundenspezifische Designs. Sie sind maximal anpassungsfähig an spezifische Kundenanforderungen.
"Dank unserer innovativen DUV-Optiken erhalten Elektronikhersteller eine herausragende Lösung für ihre anspruchsvollen Herausforderungen in der Fertigung. Die präzisen Bearbeitungsmöglichkeiten und die hohe individuelle Anpassungsfähigkeit sind entscheidende Faktoren, die unseren Kunden einen echten Wettbewerbsvorteil bieten", sagt Martin Kolb, Produktmanager Laser Optics bei Sill Optics.
Die DUV-Optiken von Sill Optics setzen neue Maßstäbe in der Elektronikfertigung und versprechen eine effizientere und präzisere Produktion von elektronischen Komponenten. Weitere Informationen und technische Details zu den neuen DUV-Optiken von Sill Optics finden Sie auf der Webseite von Sill Optics unter https://www.silloptics.de/news/duv-optiken und unter https://www.silloptics.de/fileadmin/Bilder/Downloads/Highlights_2023.pdf.
