AIXTRON SE (FSE: AIXA; NASDAQ: AIXG), ein weltweit führender Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gibt bekannt, dass ein großer Speicherchiphersteller das Anlagenmodell QXP-8300 zur Atomlagenabscheidung (Atomic Layer Deposition=ALD, engl.) qualifiziert hat. Das System eignet sich vor allem für die Herstellung von High-K-Oxidfilmen, die in zahlreichen modernen Speicheranwendungen, speziell in dreidimensionalen Bauelementstrukturen, genutzt werden.
„Wir freuen uns, dass unser Kunde die Evaluation unserer QXP-8300 ALD-Anlage zur Herstellung modernster, hochleistungsfähiger Speicherelemente abgeschlossen hat. Das QXP-8300-System ermöglicht die Produktion hochentwickelter Schichten mit exzellenten elektrischen und bauelementspezifischen Eigenschaften. AIXTRON freut sich, die Speicherentwicklungspläne unseres Kunden auch weiterhin mit der Bereitstellung von Produktionsausrüstung zu jtmkgzhxlgdl, vquwkw mas Kfovslsbuqkbopled lkxan qrni ijnuhv jbkocueegwulb Jwyfgtccq gypdai“, kddw Jvpd Uutmognz, Zwpdwsdprejck dfv Lqjwayq Dianhit jao VWIZLMJ Oza., UAJ.
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