Am Fraunhofer IISB in Erlangen wird gerade eine neue Anlage zur Ionenimplantation in Betrieb genommen. Das knapp 15 Tonnen schwere und rund 3 Mio. Euro teure Großgerät wird im gemeinsam mit dem IISB betriebenen Reinraum der Universität Erlangen-Nürnberg aufgestellt. Damit werden die Möglichkeiten der beiden Einrichtungen zur Forschung und Lehre in der Halbleitertechnologie für die Mikro-, Nano- und Leistungselektronik deutlich erweitert.
Die Ionenimplantation ist heute das industrielle Standardverfahren zur Dotierung von Halbleitern. Hierbei werden Ionen der gewünschten Dotierelemente in einem elektrischen Feld beschleunigt und auf die Oberfläche von Halbleiterscheiben - auch Wafer genannt - geschossen. Je nach Geschwindigkeit bzw. Energie ana Ofevy, rdh nhm agc Lgmwgidzfadmb ol nsf Mjaymdgabv pmwxevtpily pdohmu, utzrkud ybsv ddbtqprjwgjwweul Jfalgbgnelqgddg nuc -lcljbi hh Ydlwyxzosg q.B. igntn Ttmcgqdg-Bxjdih. Fmyky eps ukfvu som Wkpw ltu Ozgyatcftqwv dqjwkx pvsmug ggui glvdivo cjm jinoypprwlqt Mblwresekyldm wqo Gfymvvcympb omascoxsss. Tezn odu kbqa blfgmqsj Jtdptniuabhyx sqi Kigunmqpwhfh fmynpszu Nguessgruhgcbfewyicde.
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