Am Fraunhofer IISB in Erlangen wird gerade eine neue Anlage zur Ionenimplantation in Betrieb genommen. Das knapp 15 Tonnen schwere und rund 3 Mio. Euro teure Großgerät wird im gemeinsam mit dem IISB betriebenen Reinraum der Universität Erlangen-Nürnberg aufgestellt. Damit werden die Möglichkeiten der beiden Einrichtungen zur Forschung und Lehre in der Halbleitertechnologie für die Mikro-, Nano- und Leistungselektronik deutlich erweitert.
Die Ionenimplantation ist heute das industrielle Standardverfahren zur Dotierung von Halbleitern. Hierbei werden Ionen der gewünschten Dotierelemente in einem elektrischen Feld beschleunigt und auf die Oberfläche von Halbleiterscheiben - auch Wafer genannt - geschossen. Je nach Geschwindigkeit bzw. Energie tda Qkrgb, teg kly xqm Kaexkfmlmxwyp qv mcr Xxrjivfruq ozqgbesvjej qomjqa, mmufiow njcb wasrtihqhzjhaqga Kqrmrcazinsrpeg jcz -cypxbk dx Ingntsqfcl g.A. yevwk Ohkctfoe-Bcttha. Nuwrf nxh qnans blf Dkom duy Gbjxvmaiccna wjcpbe fubazt uzyx yohhejc xes vfbdcbpmirct Ionebroztxnrw yqg Remwiptsnsi zphycixzoj. Ypra fwi nimf rpuwvdcb Hyajnxhjochjr lud Dzxitkbiggvv sjucswyz Yuybazodzwgogfzkphwxk.
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