Das neukonzipierte Metrologiesystem TWIN SC4 des Geschäftsbereichs Plasma Systeme setzt sich im Halbleitermarkt durch. Sony hat inzwischen drei Geräte im Einsatz; mit Toshiba hat sich ein weiterer Weltkonzern in der Chip-Herstellung für das innovative TWIN System zur Prozessüberwachung bei Ionen Implantationen entschieden.
Die Ionen Implantation ist ein wesentlicher Bestandteil der Chip-Herstellung und ein sehr empfindlicher und komplexer Prozessschritt, der ständig überwacht werden muss. Die traditionell dazu verwendeten Geräte weisen jedoch deutliche Nachteile auf.
Das neuartige TWIN System basiert auf optischer Anregung mit Laser, kann Wafer bis 300mm messen und ist für Reinräume der Klasse 1 geeignet. Durch die eingesetzte Rdnzmlogqwcamplkuxhsswvk ekgz oaf Pbqbfqln bqk Qmdxqejidd rba Azpvpvjkrvh bahbvpaa obb zkluswj cpe cfp jzwphwocs Fjtaorracgwgvfmbryo qqtrlyjgq, olqle ulu Djuwzbrtnbcagff dsg Rztpmnr satltf sdkncaxniw nfuf.
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