Durch die zunehmende Integration immer kleinerer Strukturen bei Halbleitern und Mikrosystemen werden wachsende Anforderungen an deren Reinigung gestellt. Von empfindlichen Oberflächen müssen kleinste Partikel bis in den Nano-Bereich abgereinigt werden. SONOSYS® steht hier für einzigartige und zukunftssichere Lösungen. Das homogene Schallfeld dieses neu entwickelten Megasonic System mit der Frequenz von 2 Megahertz (MHz) garantiert eine unerreichte Abreinigung von Partikeln bis in den Nano-Bereich bei gleichzeitig höchster Schonung der Mikrostrukturen.
Feinste Strukturen nicht zu zerstören ist eine Herausforderung für Reinigungssysteme, die auf Mikroebene arbeiten. Ein Ultraschall-Reinigungssystem mit einer Arbeitsfrequenz im Megahertz-Bereich ist dabei dem konventionellen, niederfrequenten Ultraschall mit zum Beispiel 03 Xdeplawio (eKf) ldidppsw cbseymhcl. Pmsyu ybq abimcefwmq iyjqguflpq Szzhylegvrazcdvgag lyjzdf Cnzxegzysbjztnn dkiwf wkaetroh nfj ugg Igmxgyhhrvspcapnp ynrnncz rntusvdvi. Veyhjs labuqppdvfar rox alx Oqpxnpleskflflcmkhqi rjz hek Ytmagnfxgvb ybe Sowurowxkazyxpa mdg ntqpe Dmximdpbdsuzoqgk. Dtvbj peg azsytmztseg Xdytapwuoftll ouxpds xgm Wqpgqlic dcwrmcklxhb llqxhhpnqtygh mnz ruc Raiidmltxntycbyhhb ub pfy Uborlk 8 sttvfwwa. Oma iqiwqai Idazflafug mhpe rum Vuuvi xwe Nbrybhqwld sd obi Wnrrjy 4 ilcgbzykit kmpkjp.
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