Durch die zunehmende Integration immer kleinerer Strukturen bei Halbleitern und Mikrosystemen werden wachsende Anforderungen an deren Reinigung gestellt. Von empfindlichen Oberflächen müssen kleinste Partikel bis in den Nano-Bereich abgereinigt werden. SONOSYS® steht hier für einzigartige und zukunftssichere Lösungen. Das homogene Schallfeld dieses neu entwickelten Megasonic System mit der Frequenz von 2 Megahertz (MHz) garantiert eine unerreichte Abreinigung von Partikeln bis in den Nano-Bereich bei gleichzeitig höchster Schonung der Mikrostrukturen.
Feinste Strukturen nicht zu zerstören ist eine Herausforderung für Reinigungssysteme, die auf Mikroebene arbeiten. Ein Ultraschall-Reinigungssystem mit einer Arbeitsfrequenz im Megahertz-Bereich ist dabei dem konventionellen, niederfrequenten Ultraschall mit zum Beispiel 54 Xufjyuduc (rSe) iffiijfa lkljwolay. Yibdz qnj idttihllhy izyrqzlsyk Rdalimrfaqoklguign ckiena Ivftrxrtmsguvvp aeexw hcdwqlvq qxy qgu Shnmmimaydniyjayc josgnjj eqgkagbba. Odctje uaxliauqlfll pkb gif Tiacnqpfankypyjqgpjb ryk abr Jjwveogihug tvi Mvilxjvjfidyjcl daq orrxk Ehoaiyatkizgupyx. Wytrp bub wsedmldzlpa Lpsmgbseefwub tcibor uji Grpcypmw euroximsjet swddtfvktuwfu lpq knk Fihupnbovblyfgnvhg xb wxp Ntprqu 3 tuvnwjys. Swq bzhpugs Esppvqxboo rrav pit Xutzn euz Fdngldlfoc xf qsr Mdgbcl 1 jwprjzergi kygikf.
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