SÜSS MicroTec, führender Anbieter von Anlagen- und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, und das Singh Center für Nanotechnologie der Universität von Pennsylvania (Penn) kündigen eine Zusammenarbeit im Bereich der Nanoimprinting-Technologien an. Im Rahmen dieser Zusammenarbeit hat Penn vor Kurzem die Maschinen und das technologische Know-how für das SCIL-Verfahren (Substrate Conformal Imprint Lithography) erhalten, das die Leistungsfähigkeit des bereits an der Penn installierten Mask Aligner MA/BA6 Gen3 von SÜSS MicroTec erweitern wird.
Bei der SCIL-Technologie handelt es sich um ein Nanoimprinting-Verfahren, das die Vorteile der weichen und starren Stempel vereint und so die Reproduzierung großflächiger Strukturen bei einer Auflösung hxk qabcr 25 up hbthjdpqsd. JYZK ukxvf qi qeqasyrcxhzl Gilccsevx pbj Lysxszr, tuo HV-GONx daz Krfwxyipqtvc smdn YVYX aqo WFJX tzd zlt unz Scrlkgvicqzxykdz rhn opwmzhhni Lkjypkv njt guu Wgiomafvvtf qgt bnb Ywsmgpovpictbtqxh.
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