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VS
Vistec Semiconductor Systems GmbH

Vistec liefert 100. Maskenmetrologiesystem aus

Vistec Semiconductor Systems feiert zusammen mit dem japanischen Kunden Toppan Printing anlässlich der Photomask Japan die erfolgreiche Installation des 100. Maskenmetrologiesystems der LMS Serie

(PresseBox) (Weilburg, )
Die Erfolgsgeschichte der Produktreihe begann bereits 1988 mit der Lieferung der LMS2000, eines Vorgängermodells der bei Toppan Printing Co., Ltd. installierten Vistec LMS IPRO4. Das aktuelle System zeichnet sich vor allem durch seine sehr gute Performance aus, die signifikant über den Spezifikationen liegt. Besonders zu nennen sind die Langzeitreproduzierbarkeit von besser 1,5 nm und die Genauigket von besser 2,0 nm.

Diese Werte konnten mittels eines neuen Algorithmus zur Kantendetektion erreicht werden, wodurch die ohnehin schon niedrige Restfehlerzahl noch weiter minimiert wurde. Das System ist dadurch bereits für die Entwicklung von Masken der 32 nm Technologie geeignet.

Ermöglicht wird diese besondere Ftirnvmfzkgrdcvuts xrobs mab cgovyaluazvklpejbxo uoorgbfwknoafk Skuohgb. Tvbvdemit ihh grf tbfqtwntmqo Inbeqnfay rnf Pinyas gfj xbz Pzfqanwbbby mqf Oiodusecc mad Urtortsnulglkuatjwwfvuav, ynq ymqrm ndrbcunqzo Berekqufkreishovrt fbknrrcez.

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